某智能機器人實驗室采用 Polos 光刻機制造了磁控微納機器人。其激光直寫技術在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu)，機器人在旋轉(zhuǎn)磁場下的推進速度達 50μm/s，轉(zhuǎn)向精度小于 5°。通過自定義三維運動軌跡，該機器人在微流控芯片中成功實現(xiàn)了單個紅細胞的捕獲與轉(zhuǎn)運，操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設計（質(zhì)量 < 1μg）還支持在活細胞表面進行納米級手術，相關成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。圖案靈活性：支持 STL 模型直接導入，30 分鐘完成從設計到曝光全流程。河南桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

無掩模激光光刻技術為研究實驗室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具，可用于創(chuàng)建亞微米級特征，并促進電路和器件的快速原型設計。經(jīng)濟高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復雜的基礎設施和設備即可使用光刻技術。應用范圍擴展至微機電系統(tǒng) (MEM)、生物醫(yī)學設備和微電子器件的設計和制造，例如以下領域：醫(yī)療（包括微流體）、半導體、電子、生物技術和生命科學、先進材料研究。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預計在 2022 年達到 3.3606 億美元，預計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元，復合年增長率為 6.90%。由于對 5G、AIoT、物聯(lián)網(wǎng)以及半導體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長，預計未來幾十年光刻市場將持續(xù)增長。德國POLOS桌面無掩模光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸掩模制備時間歸零，科研人員耗時減少 60%，項目交付周期縮短 50%。

Polos系列通過無掩模技術減少化學廢料產(chǎn)生，同時低能耗設計（如固態(tài)激光光源）符合綠色實驗室標準。例如，其光源系統(tǒng)較傳統(tǒng)DUV光刻機能耗降低30%，助力科研機構(gòu)實現(xiàn)碳中和目標。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

一所高校的電子工程實驗室專注于新型傳感器的研究。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時，面臨著如何在微小尺寸上構(gòu)建高精度電路圖案的難題。德國 Polos 光刻機的引入解決了這一困境。其可輕松輸入任意圖案進行曝光的特性，讓研究人員能夠根據(jù)傳感器的特殊需求，設計并制作出獨特的電路結(jié)構(gòu)。通過 Polos 光刻機precise的光刻，成功制造出的壓力傳感器，靈敏度比現(xiàn)有市場產(chǎn)品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項patent，并吸引了多家科技企業(yè)的關注，有望實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應用，為可穿戴設備、智能機器人等領域帶來新的發(fā)展機遇。無掩模激光直寫技術：無需物理掩膜，軟件直接輸入任意圖案，降低成本與時間。

NanoWriterNW-100：入門級高精度加工利器，NanoWriterNW-100作為Polos的經(jīng)典型號，以0.8-2.5μm可調(diào)分辨率重塑入門級設備標準。搭載405nm或375nm激光光源，支持4095級灰度模式與2.5D結(jié)構(gòu)制作，可在硅、玻璃等多種基材上實現(xiàn)精細圖案曝光。其110×110mm加工幅面適配4英寸以內(nèi)晶圓，配合實時激光控制與自動對焦功能，1秒即可完成對焦，特別適合高校實驗室的微結(jié)構(gòu)研發(fā)，將傳統(tǒng)數(shù)小時的掩模制備流程縮短至分鐘級。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫(yī)學等領域，為科研機構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。POLOS μ：超緊湊設計，納米級精度專攻微流控與細胞芯片。廣東德國PSP-POLOS光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

光刻膠broad兼容：支持AZ5214E、SU-8等材料，優(yōu)化參數(shù)降低側(cè)壁粗糙度。河南桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

品牌定位：桌面級微納加工的革新者，德國Polos以“高精度、低成本、易操作”為core定位，專注于紫外激光直寫光刻機研發(fā)，打破了傳統(tǒng)光刻設備對大型實驗室的依賴。其產(chǎn)品主打無掩模技術與緊湊設計，將亞微米級加工能力融入桌面級設備，覆蓋微電子、材料科學、生物醫(yī)學等多領域。從科研機構(gòu)的快速原型制作到中小企業(yè)的小批量生產(chǎn)，Polos通過技術普惠，成為全球微納加工領域的親民型benchmark品牌。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫(yī)學等領域，為科研機構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。河南桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化