貴金屬小實驗槽在珠寶加工中的應用：貴金屬小實驗槽為個性化珠寶設計提供高效的解決方案。通過控制電流密度（0.5~2A/dm2）和電解液溫度（45~60℃），可在銀、銅基材表面快速沉積24K金，鍍層厚度0.5~3μm，附著力達ISO2819標準。設備支持局部選擇性鍍金，例如在戒指內壁雕刻圖案后進行掩膜電鍍，實現“無氰、無損耗”的精細加工。一些珠寶工作室使用該設備開發的鍍金絲帶戒指，單枚成本較傳統工藝降低40%，生產周期從3天縮短至6小時。石墨烯復合鍍層，耐磨性提升 5 倍。江蘇自動化實驗電鍍設備

鍍銅鉑實驗設備是一類用于在基材表面通過電化學沉積或化學沉積工藝，先后或同步形成銅層與鉑層（或銅鉑合金層）的實驗裝置。其功能是通過精確控制沉積條件（如電流、溫度、濃度等），在金屬、陶瓷、玻璃等基材表面制備具有特定厚度、均勻性和性能的銅鉑復合鍍層，廣泛應用于材料科學、電子工程、催化科學等領域的實驗研究與小批量制備。

選型依據：

實驗規模：小型實驗室選 “桌面式一體機”（容積 50-200mL），中試選 “落地式多槽設備”（容積 500-2000mL）；

工藝需求：需脈沖鍍層選 “脈沖電源款”，化學鍍選 “無電源 + 高精度溫控款”；

自動化程度：設備含 PLC 控制系統，可預設程序并記錄數據，適合精密實驗。 自動化實驗電鍍設備配件MBR 廢液處理，鎳離子回用率超 98%。

實驗室電鍍設備種類多樣，主要包括以下幾類：按操作控制方式分：手動電鍍機：操作簡單，適合小規模實驗和教學演示，如學校實驗室開展基礎電鍍教學。半自動電鍍機：通過預設程序自動控制部分電鍍過程，能提高實驗效率，常用于有一定流程規范的研究實驗。按設備形態及功能分：電鍍槽：是進行電鍍反應的容器。有直流電鍍槽，適用于常見金屬電鍍實驗；特殊材料電鍍槽，如塑料電鍍槽，可用于研究特殊材質的電鍍工藝。電源設備：為電鍍提供電能，像小型實驗整流電源，可輸出穩定直流電，滿足實驗室對不同電流、電壓的需求。輔助設備：溫控設備，如加熱或制冷裝置，控制電解液溫度；過濾設備，用于凈化電解液，保證鍍層質量；攪拌設備，采用空氣攪拌或機械攪拌的方式，使電解液成分均勻。特殊類型電鍍設備：化學鍍設備：如三槽式化學鍍設備，無需外接電源，靠化學反應在工件表面沉積鍍層，可用于化學鍍鎳等實驗。真空電鍍機：在真空環境下進行鍍膜，能使鍍層更致密，常用于光學鏡片等對鍍層質量要求高的樣品制備。

堿銅掛鍍設備產品特點：采用手動式操作，主要應用于電鍍銅、鎳、鉻等工藝，適用于工藝成熟穩定、小批量且電鍍工件種類繁多的產品生產。采用三槽式手動掛鍍操作方式；線體設計合理，結構緊湊，占地面積小，操作簡便，支持電鍍各種大小工件；線體工藝、設備規格及配套輔助設備，均可根據客戶實際需求定制化設計與轉化。掛鍍設備特點掛鍍指在生產線上借助類似掛鉤的物件懸掛被鍍件，于電鍍槽中完成電鍍，分為人工、自動兩種方式；掛具需與零件牢固接觸，確保電流均勻流經鍍件；掛具形式依據生產工件實際情況設計，強調裝卸便捷性；適用于電鍍精密高要求零件，如：表殼、表帶、眼鏡架、首飾、五金精密件等；可根據客戶電鍍種類與工藝，設計定制手動式、半自動、全自動等不同方式的電鍍生產線。光伏加熱模塊，綜合能耗降低 40%。

滾鍍設備特點：

滾鍍設備是工件在滾筒內進行電鍍，其與掛鍍件比較大的不同是使用了滾筒，滾筒承載工件在不停翻滾過程中受鍍。滾筒一般呈六棱柱狀，水平臥式放置，設計一面開口，電鍍時工件從開口處裝進電鍍滾筒內。滾筒材質包括PP板、網板式、亞克力板、不銹鋼板等。電鍍時，工件與陽極間電流的導通，筒內外溶液的更新及廢氣排出等，均需通過滾筒上的小孔實現。滾筒陰極導電裝置采用銅線或銅棒，借助滾筒內工件自身重力，與陰極導電裝置自然連接。滾筒的結構、尺寸、大小、轉速、導電方式及開孔率等諸多因素，均與滾鍍生產效率、鍍層質量相關，因此滾筒會根據不同客戶需求設計定制。 金剛石復合鍍層，硬度 HV2000+。附近實驗電鍍設備

原位 AFM 監測，納米級生長動態可視化。江蘇自動化實驗電鍍設備

電鍍槽作為電鍍工藝的裝置，承擔著盛裝電解液并構建電化學反應環境的關鍵作用。其材質選擇需兼顧耐腐蝕性與熱穩定性：PP槽耐酸堿、耐高溫（≤100℃），適用于酸性鍍液；PVC槽成本低但耐溫性差（≤60℃），適合低溫場景；鈦合金槽抗腐蝕性能優異，多用于高溫鍍鉻；不銹鋼槽機械強度高，常見于工業生產線。根據工藝需求可分為三種類型：普通開放式槽結構簡單，適用于平板零件常規電鍍；真空槽通過真空環境減少氧化，如鍍鋁機可形成高純度金屬膜；滾筒槽采用旋轉設計，適合小零件批量滾鍍，內部導流板強化溶液攪拌以確保鍍層均勻。特殊設計可集成加熱夾層或循環管路，精細控制電解液溫度（如鎳槽55-60℃）。實際應用中需結合零件形狀、鍍層要求及生產規模，選擇比較好槽體類型與材質組合，確保工藝穩定性與生產效率。江蘇自動化實驗電鍍設備