顯示的區域約1納米寬，中心在628納米左右。通過*0.7秒的單次曝光記錄太陽光譜的可見區域，演示了HN-9332光譜儀的寬波長覆蓋范圍。圖的左側部分顯示了SpectraLoK軟件直接顯示的整個425-700nm波長范圍。圖的右部分顯示了在517nm附近鎂三重態周圍連續擴展的區域。HN-9332光譜儀的儀器分辨率比較好用頻率單位來表示——儀器波長覆蓋范圍約20GHz，對應于425nm處約15pm、550nm處約2pμm和700nm處約30pm的分辨率。因此，圖中顯示的數據可以理解為相當于>10000個分辨率點，所有這些分辨率點都記錄在不到1秒的單次曝光中。反應性濺鍍制備強化膜：在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材。上海AM0太陽光譜模擬工廠

步驟5)中，靶材為鉻靶，功率為11kw，電壓為500v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為110sccm，氧氣流量為90sccm，制得的吸收膜的厚度為80nm；6)反應性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發生化學反應生成二氧化硅，反應生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層；步驟6)中，靶材為硅靶，功率為6kw，電壓為560v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為220sccm，氧氣流量為30sccm，制得的抗反射膜的厚度為120nm。山西下打光太陽光譜模擬濾光片本申請制備的膜層的發射率為3％～5％，比現有技術中膜層的發射率降低了3％～12％。

反應性濺鍍制備緩沖膜：在第三真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氮氣發生化學反應生成氮化鉻，反應生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發射率膜的外表面上形成緩沖膜；4)反應性濺鍍制備過渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發生化學反應生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜；5)反應性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發生化學反應生成氧化鉻，反應生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜；

為了得到高質量的化合物薄膜，通常在濺鍍金屬靶時，通入與被濺射出的物質反應的氣體，相互反應生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統稱為反應性濺鍍。如果所通入的氣體含量剛好足夠與濺射出的原子進行反應，使得在靶材表面甚少形成化合物，則有利濺射的進行。相反地，如果通入過量的氣體，則不僅在基材上與濺射出的原子進行反應，也會在靶面上與靶材反應生成化合物。因此，如何提高吸熱體的基材的外表面上的薄膜對太陽熱能的吸收，提高光熱轉換的效率，是本領域技術人員急需解決的技術問題。技術實現要素：撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發生化學反應生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻。

技術實現要素：(一)要解決的技術問題針對于現有技術問題，本發明提出一種太陽光照補償值計算方法，用于至少部分解決上述技術問題。(二)技術方案本發明提供一種太陽光照補償值計算方法，用于對地球靜止軌道衛星光學遙感圖像進行光補償，包括：獲取地球靜止軌道衛星光學遙感圖像尺寸、地理經度區間、地理緯度區間、拍攝日期、拍攝時刻及拍攝位置高程；根據地球靜止軌道衛星光學遙感圖像尺寸、地理經度區間、地理緯度區間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程，計算地球靜止軌道衛星光學遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度；根據太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度，計算地球靜止軌道衛星光學遙感圖像的太陽總輻照強度；針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應的地球靜止軌道衛星光學遙感圖像，計算各自對應的太陽總輻照強度相互之間的差值，得到各個地球靜止軌道衛星光學遙感圖像各像素之間的太陽光照補償值。反應性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材。福建太陽光譜模擬AM1.5

通過降低成本和回收利用這些生長基底，未來類似的產品可能將被推向市場。上海AM0太陽光譜模擬工廠

該儀器能夠快速顯示實時光譜，因此有可能找到具有***多普勒頻移的望遠鏡位置，同時在這些位置記錄更長的曝光光譜，提高信噪比。下圖所示的鐵譜線相隔約5pm，因為這些光譜不是在太陽圓盤的末端拍攝的。太陽自轉引起的兩條夫瑯和費鐵線（相對于未移動的氧線）多普勒頻移的測量。在左邊的圖表中，紅色和藍色的線是HF-8989-3光譜儀的實驗數據，當時太陽圓盤的圖像通過輸入光纖移動到光譜儀（從一個邊緣到另一個邊緣）。每個實驗光譜的曝光時間<1秒。上海AM0太陽光譜模擬工廠

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