晶圓切割是半導體封裝的中心環節，傳統刀片切割通過金剛石砂輪實現材料分離。中清航科研發的超薄刀片（厚度15-20μm）結合主動冷卻系統，將切割道寬度壓縮至30μm以內，崩邊控制在5μm以下。我們的高剛性主軸技術可適配8/12英寸晶圓，切割速度提升40%，為LED、MEMS器件提供經濟高效的解決方案。針對超薄晶圓（<50μm）易碎裂難題，中清航科激光隱形切割系統采用紅外脈沖激光在晶圓內部形成改性層，通過擴張膜實現無應力分離。該技術消除機械切割導致的微裂紋，良率提升至99.3%，尤其適用于存儲芯片、CIS等器件，助力客戶降低材料損耗成本。中清航科切割機防震平臺隔絕0.1Hz振動，保障切割穩定性。鎮江碳化硅晶圓切割藍膜

中清航科開放6條全自動切割產線，支持從8英寸化合物半導體到12英寸邏輯晶圓的來料加工。云端訂單系統實時追蹤進度，平均交貨周期48小時，良率承諾99.2%。先進封裝RDL層切割易引發銅箔撕裂。中清航科應用超快飛秒激光（脈寬400fs）配合氦氣保護，在銅-硅界面形成納米級熔融區，剝離強度提升5倍。中清航科搭建全球較早切割工藝共享平臺，收錄3000+材料參數組合?？蛻糨斎刖A類型/厚度/目標良率，自動生成比較好參數包，工藝開發周期縮短90%。鎮江芯片晶圓切割測試晶圓切割大數據平臺中清航科開發，實時分析10萬+工藝參數。

面向磁傳感器制造，中清航科開發超導磁懸浮切割臺。晶圓在強磁場（0.5T）下懸浮，消除機械接觸應力，切割后磁疇結構畸變率<0.3%，靈敏度波動控制在±0.5%。中清航科電化學回收裝置從切割廢水中提取金/銅/錫等金屬，純度達99.95%。單條產線年回收貴金屬價值超$80萬，回收水符合SEMIF78標準，實現零廢液排放。針對HJT電池脆弱電極層，中清航科采用熱激光控制技術（LCT）。紅外激光精確加熱切割區至200℃，降低材料脆性，電池效率損失<0.1%，碎片率控制在0.2%以內。

中清航科創新性推出“激光預劃+機械精切”復合方案：先以激光在晶圓表面形成引導槽，再用超薄刀片完成切割。此工藝結合激光精度與刀切效率，解決化合物半導體（如GaAs、SiC）的脆性開裂問題，加工成本較純激光方案降低35%。大尺寸晶圓切割面臨翹曲變形、應力集中等痛點。中清航科全自動切割機配備多軸聯動補償系統，通過實時監測晶圓形變動態調整切割參數。搭配吸附托盤，將12英寸晶圓平整度誤差控制在±2μm內，支持3DNAND多層堆疊結構加工。中清航科定制刀輪應對超薄晶圓切割，碎片率降至0.1%以下。

晶圓切割的工藝參數設置需要豐富的經驗積累，中清航科開發的智能工藝推薦系統，基于千萬級切割數據訓練而成。只需輸入晶圓材料、厚度、切割道寬等基本參數，系統就能自動生成比較好的切割方案，包括激光功率、切割速度、聚焦位置等關鍵參數，新手操作人員也能快速達到工程師的工藝水平，大幅降低技術門檻。半導體產業對設備的占地面積有著嚴格要求，中清航科采用緊湊型設計理念，將晶圓切割設備的占地面積控制在2平方米以內，較傳統設備減少40%。在有限空間內，通過巧妙的結構布局實現全部功能集成，同時預留擴展接口，方便后續根據產能需求增加模塊，滿足不同規模生產車間的布局需求。晶圓切割后清洗設備中清航科專利設計，殘留顆粒＜5個/片。鎮江芯片晶圓切割測試

選擇中清航科切割代工服務，復雜圖形晶圓損耗降低27%。鎮江碳化硅晶圓切割藍膜

當晶圓切割面臨復雜圖形切割需求時，中清航科的矢量切割技術展現出獨特優勢。該技術可精確識別任意復雜切割路徑，包括圓弧、曲線及異形圖案，通過分段速度調節確保每一段切割的平滑過渡，切割軌跡誤差控制在2μm以內。目前已成功應用于光電子芯片的精密切割，為AR/VR設備中心器件生產提供有力支持。半導體生產車間的設備協同運作對通信兼容性要求極高，中清航科的晶圓切割設備多方面支持OPCUA通信協議，可與主流MES系統實現實時數據交互。通過標準化數據接口，將切割進度、設備狀態、質量數據等信息實時上傳至管理平臺，助力客戶實現生產過程的數字化管控與智能決策。鎮江碳化硅晶圓切割藍膜