在半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化替代的浪潮中，中清航科始終堅(jiān)持自主創(chuàng)新，中心技術(shù)100%自主可控。其晶圓切割設(shè)備的關(guān)鍵部件如激光發(fā)生器、精密導(dǎo)軌、控制系統(tǒng)等均實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化量產(chǎn)，不僅擺脫對(duì)進(jìn)口部件的依賴(lài)，還將設(shè)備交付周期縮短至8周以?xún)?nèi)，較進(jìn)口設(shè)備縮短50%，為客戶(hù)搶占市場(chǎng)先機(jī)提供有力支持。展望未來(lái)，隨著3nm及更先進(jìn)制程的突破，晶圓切割將面臨更小尺寸、更高精度的挑戰(zhàn)。中清航科已啟動(dòng)下一代原子級(jí)精度切割技術(shù)的研發(fā)，計(jì)劃通過(guò)量子點(diǎn)標(biāo)記與納米操控技術(shù)，實(shí)現(xiàn)10nm以下的切割精度，同時(shí)布局晶圓-封裝一體化工藝，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)發(fā)展提供前瞻性的技術(shù)解決方案，與全球客戶(hù)共同邁向更微觀(guān)的制造領(lǐng)域。中清航科等離子切割技術(shù)處理氮化鎵晶圓，熱影響區(qū)減少60%。鹽城碳化硅陶瓷晶圓切割

中清航科在切割頭集成聲波傳感器，通過(guò)頻譜分析實(shí)時(shí)識(shí)別崩邊、裂紋等缺陷（靈敏度1μm）。異常事件觸發(fā)自動(dòng)停機(jī)，避免批量損失，每年減少?gòu)U片成本$2.5M。為提升CIS有效感光面積，中清航科將切割道壓縮至8μm：激光隱形切割（SD）配合智能擴(kuò)膜系統(tǒng)，崩邊<3μm，使1/1.28英寸傳感器邊框縮減40%，暗電流降低至0.12nA/cm2。中清航科金剛石刀片再生技術(shù)：通過(guò)等離子體刻蝕去除表層磨損層，重新鍍覆納米金剛石顆粒。再生刀片壽命達(dá)新品90%，成本降低65%，已服務(wù)全球1200家客戶(hù)。江蘇碳化硅陶瓷晶圓切割藍(lán)膜第三代半導(dǎo)體切割中清航科提供全套解決方案，良率95%+。

隨著芯片輕薄化趨勢(shì)，中清航科DBG（先切割后研磨）與SDBG（半切割后研磨）設(shè)備采用漸進(jìn)式壓力控制技術(shù)，切割階段只切入晶圓1/3厚度，經(jīng)背面研磨后自動(dòng)分離。該方案將100μm以下晶圓碎片率降至0.01%，已應(yīng)用于5G射頻模塊量產(chǎn)線(xiàn)。冷卻液純度直接影響切割良率。中清航科納米級(jí)過(guò)濾系統(tǒng)可去除99.99%的0.1μm顆粒，配合自主研發(fā)的抗靜電添加劑，減少硅屑附著造成的短路風(fēng)險(xiǎn)。智能溫控模塊維持液體粘度穩(wěn)定，延長(zhǎng)刀片壽命200小時(shí)以上呢。

為滿(mǎn)足半導(dǎo)體行業(yè)的快速交付需求，中清航科建立了高效的設(shè)備生產(chǎn)與交付體系。采用柔性化生產(chǎn)模式，標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)切割設(shè)備可實(shí)現(xiàn)7天內(nèi)快速發(fā)貨，定制化設(shè)備交付周期控制在30天以?xún)?nèi)。同時(shí)提供門(mén)到門(mén)安裝調(diào)試服務(wù)，配備專(zhuān)業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)全程跟進(jìn)，確保設(shè)備快速投產(chǎn)。在晶圓切割的工藝參數(shù)優(yōu)化方面，中清航科引入實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)（DOE）方法。通過(guò)多因素正交試驗(yàn)，系統(tǒng)分析激光功率、切割速度、焦點(diǎn)位置等參數(shù)對(duì)切割質(zhì)量的影響，建立參數(shù)優(yōu)化模型，可在20組實(shí)驗(yàn)內(nèi)找到比較好工藝組合，較傳統(tǒng)試錯(cuò)法減少60%的實(shí)驗(yàn)次數(shù)，加速新工藝開(kāi)發(fā)進(jìn)程。中清航科晶圓切割代工廠(chǎng)通過(guò)ISO14644潔凈認(rèn)證，量產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)足。

為提升芯片產(chǎn)出量，中清航科通過(guò)刀片動(dòng)態(tài)平衡控制+激光輔助定位，將切割道寬度從50μm壓縮至15μm。導(dǎo)槽設(shè)計(jì)減少材料浪費(fèi)，使12英寸晶圓有效芯片數(shù)增加18%，明顯降低單顆芯片制造成本。切割產(chǎn)生的亞微米級(jí)粉塵是電路短路的元兇。中清航科集成靜電吸附除塵裝置，在切割點(diǎn)10mm范圍內(nèi)形成負(fù)壓場(chǎng)，配合離子風(fēng)刀清理殘留顆粒，潔凈度達(dá)Class1標(biāo)準(zhǔn)（>0.3μm顆粒<1個(gè)/立方英尺）。中清航科設(shè)備內(nèi)置AOI（自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)）模塊，采用多光譜成像技術(shù)實(shí)時(shí)識(shí)別崩邊、微裂紋等缺陷。AI算法在0.5秒內(nèi)完成芯片級(jí)判定，不良品自動(dòng)標(biāo)記，避免后續(xù)封裝資源浪費(fèi)，每年可為客戶(hù)節(jié)省品質(zhì)成本超百萬(wàn)。切割粉塵在線(xiàn)監(jiān)測(cè)中清航科傳感器精度達(dá)0.01μm顆粒物檢測(cè)。江蘇12英寸半導(dǎo)體晶圓切割藍(lán)膜

中清航科全自動(dòng)切割線(xiàn)配備AI視覺(jué)定位，精度達(dá)±1.5μm。鹽城碳化硅陶瓷晶圓切割

中清航科設(shè)備搭載AI參數(shù)推薦引擎，通過(guò)分析晶圓MAP圖自動(dòng)匹配切割速度、進(jìn)給量及冷卻流量。機(jī)器學(xué)習(xí)模型基于10萬(wàn)+案例庫(kù)持續(xù)優(yōu)化，將工藝調(diào)試時(shí)間從48小時(shí)縮短至2小時(shí)，快速響應(yīng)客戶(hù)多品種、小批量需求。SiC材料硬度高、脆性大，傳統(tǒng)切割良率不足80%。中清航科采用激光誘導(dǎo)劈裂技術(shù)（LIPS），通過(guò)精確控制激光熱影響區(qū)引發(fā)材料沿晶向解理，切割速度達(dá)200mm/s，崩邊<10μm，滿(mǎn)足新能源汽車(chē)功率器件嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn)。中清航科提供從晶圓貼膜、切割到清洗的全流程自動(dòng)化方案。機(jī)械手聯(lián)動(dòng)精度±5μm，兼容SECS/GEM協(xié)議實(shí)現(xiàn)MES系統(tǒng)對(duì)接。模塊化設(shè)計(jì)支持產(chǎn)能彈性擴(kuò)展，單線(xiàn)UPH（每小時(shí)產(chǎn)能）提升至120片，人力成本降低70%。鹽城碳化硅陶瓷晶圓切割