半導(dǎo)體制造對(duì)潔凈度要求嚴(yán)苛，晶圓切割環(huán)節(jié)的微塵污染可能導(dǎo)致芯片失效。中清航科的切割設(shè)備采用全封閉防塵結(jié)構(gòu)與高效HEPA過濾系統(tǒng)，工作區(qū)域潔凈度達(dá)到Class1標(biāo)準(zhǔn)，同時(shí)配備激光誘導(dǎo)等離子體除塵裝置，實(shí)時(shí)清理切割產(chǎn)生的微米級(jí)顆粒，使產(chǎn)品不良率降低至0.1%以下。在成本控制成為半導(dǎo)體企業(yè)核心競(jìng)爭(zhēng)力的現(xiàn)在，中清航科通過技術(shù)創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)切割耗材的大幅節(jié)約。其自主研發(fā)的金剛石切割刀片，使用壽命較行業(yè)平均水平延長50%，且通過刀片磨損實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)與自動(dòng)補(bǔ)償技術(shù)，減少頻繁更換帶來的停機(jī)損失，幫助客戶降低20%的耗材成本，在激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中構(gòu)筑成本優(yōu)勢(shì)。中清航科晶圓切割代工廠通過ISO14644潔凈認(rèn)證，量產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)足。溫州晶圓切割藍(lán)膜

UV膜殘膠導(dǎo)致芯片貼裝失效。中清航科研發(fā)酶解清洗液，在50℃下選擇性分解膠層分子鏈，30秒清理99.9%殘膠且不損傷鋁焊盤，替代高污染溶劑清洗。針對(duì)3DNAND多層堆疊結(jié)構(gòu)，中清航科采用紅外視覺穿透定位+自適應(yīng)焦距激光，實(shí)現(xiàn)128層晶圓的同步切割。垂直對(duì)齊精度±1.2μm，層間偏移誤差<0.3μm。中清航科綠色方案整合電絮凝+反滲透技術(shù)，將切割廢水中的硅粉、金屬離子分離回收，凈化水重復(fù)利用率達(dá)98%，符合半導(dǎo)體廠零液體排放（ZLD）標(biāo)準(zhǔn)。麗水碳化硅晶圓切割企業(yè)中清航科推出晶圓切割應(yīng)力補(bǔ)償算法，翹曲晶圓良率提升至98.5%。

中清航科原子層精切技術(shù)：采用氬離子束定位轟擊（束斑直徑2nm），實(shí)現(xiàn)石墨烯晶圓無損傷分離。邊緣鋸齒度<5nm，電導(dǎo)率波動(dòng)控制在±0.5%，滿足量子芯片基材需求。中清航科SmartCool系統(tǒng)通過在線粘度計(jì)與pH傳感器，實(shí)時(shí)調(diào)整冷卻液濃度（精度±0.1%）。延長刀具壽命40%，減少化學(xué)品消耗30%，單線年省成本$12萬。中清航科開發(fā)振動(dòng)指紋庫：采集設(shè)備運(yùn)行特征頻譜，AI定位振動(dòng)源（如電機(jī)偏心/軸承磨損）。主動(dòng)抑制系統(tǒng)將振動(dòng)能量降低20dB，切割線寬波動(dòng)<±0.5μm。

晶圓切割/裂片是芯片制造過程中的重要工序，屬于先進(jìn)封裝(advancedpackaging)的后端工藝(back-end)之一，該工序可以將晶圓分割成單個(gè)芯片，用于隨后的芯片鍵合。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)高性能和更小型電子器件的需求增加，晶圓切割/裂片精度及效率控制日益不可或缺。晶圓切割的重要性在于它能夠在不損壞嵌入其中的精細(xì)結(jié)構(gòu)和電路的情況下分離單個(gè)芯片，成功與否取決于分離出來的芯片的質(zhì)量和產(chǎn)量，以及整個(gè)過程的效率。為了實(shí)現(xiàn)這些目標(biāo)，目前已經(jīng)開發(fā)了多種切割技術(shù)，每種技術(shù)都有其獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。中清航科聯(lián)合高校成立切割技術(shù)研究院，突破納米級(jí)切割瓶頸。

為幫助客戶應(yīng)對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)人才短缺問題，中清航科推出“設(shè)備+培訓(xùn)”打包服務(wù)。購買設(shè)備的客戶可獲得技術(shù)培訓(xùn)名額，培訓(xùn)內(nèi)容涵蓋設(shè)備操作、工藝調(diào)試、故障排除等，培訓(xùn)結(jié)束后頒發(fā)認(rèn)證證書。同時(shí)提供在線技術(shù)支持平臺(tái)，隨時(shí)解答客戶在生產(chǎn)中遇到的技術(shù)問題。隨著半導(dǎo)體器件向微型化、集成化發(fā)展，晶圓切割的精度要求將持續(xù)提升。中清航科已啟動(dòng)亞微米級(jí)切割技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目，計(jì)劃通過引入更高精度的運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)與更短波長的激光源，實(shí)現(xiàn)500nm以內(nèi)的切割精度，為量子芯片、生物傳感器等前沿領(lǐng)域的發(fā)展提供關(guān)鍵制造設(shè)備支持。中清航科切割道檢測(cè)儀實(shí)時(shí)反饋數(shù)據(jù)，動(dòng)態(tài)調(diào)整切割參數(shù)。湖州碳化硅陶瓷晶圓切割代工廠

切割刀痕深度控制中清航科技術(shù)達(dá)±0.2μm，減少后續(xù)研磨量。溫州晶圓切割藍(lán)膜

隨著芯片輕薄化趨勢(shì)，中清航科DBG（先切割后研磨）與SDBG（半切割后研磨）設(shè)備采用漸進(jìn)式壓力控制技術(shù)，切割階段只切入晶圓1/3厚度，經(jīng)背面研磨后自動(dòng)分離。該方案將100μm以下晶圓碎片率降至0.01%，已應(yīng)用于5G射頻模塊量產(chǎn)線。冷卻液純度直接影響切割良率。中清航科納米級(jí)過濾系統(tǒng)可去除99.99%的0.1μm顆粒，配合自主研發(fā)的抗靜電添加劑，減少硅屑附著造成的短路風(fēng)險(xiǎn)。智能溫控模塊維持液體粘度穩(wěn)定，延長刀片壽命200小時(shí)以上呢。溫州晶圓切割藍(lán)膜