中小設計企業往往面臨流片經驗不足、資金有限等問題，中清航科推出針對性的創業扶持流片代理方案。為初創企業提供的 DFM 咨詢服務，幫助優化設計方案，降低流片風險；首輪流片享受 30% 的費用減免，同時提供分期付款選項，較長可分 6 期支付。在技術支持方面，配備專屬技術顧問，從設計初期到流片完成全程提供指導，包括工藝選擇建議、測試方案設計等。針對初創企業的產品迭代快特點，推出 “快速迭代流片服務”，同一產品的二次流片可復用部分掩膜版，降低迭代成本。此外，中清航科還聯合投資機構為質優項目提供投融資對接服務，形成 “流片 + 融資” 的生態支持。目前已服務超過 300 家初創企業，幫助其中 20 余家完成下一輪融資，流片項目的平均量產轉化率達到 65%。中清航科代理硅光子流片，耦合損耗優化方案降低0.8dB。舟山臺積電 12nm流片代理

對于需要進行失效分析的流片項目，中清航科建立了專業的失效分析合作網絡。與國內前列失效分析實驗室合作，提供從芯片開封、切片分析到 SEM/EDX 檢測的全流程服務，能在 48 小時內出具初步分析報告，72 小時內提供完整的失效機理分析。其技術團隊會結合流片工藝參數，幫助客戶區分設計缺陷與工藝問題，并提供針對性的改進建議，去年為客戶解決了 60 余起復雜的流片失效問題，平均縮短問題解決周期 80%。中清航科關注新興市場的流片需求，針對東南亞、南亞等地區的半導體產業發展，建立了本地化服務團隊。這些團隊熟悉當地的產業政策、市場需求與供應鏈特點，能為客戶提供符合當地標準的流片方案，如針對印度市場的 BIS 認證流片支持、東南亞汽車市場的本地化測試服務等。通過與當地晶圓廠、封測廠的合作，構建區域化流片供應鏈，將區域內流片交付周期縮短至 10 天以內，助力客戶開拓新興市場。湖州XMC 55nmSOI流片代理選擇中清航科RFIC流片代理，提供專屬微波測試套件。

車規級芯片的流片要求遠高于消費級產品，中清航科為此構建了符合 IATF16949 標準的車規流片代理體系。在晶圓廠選擇上，只與通過 AEC - Q100 認證的生產基地合作，確保從源頭把控質量。流片過程中，實施全流程參數鎖定，關鍵工藝參數的波動范圍控制在 ±2% 以內，同時每批次抽取 30% 的晶圓進行額外可靠性測試，包括高溫反偏、溫度循環、濕熱測試等。針對車規芯片的長生命周期特性，中清航科與晶圓廠簽訂長期供貨協議，保障產品在 15 年內的持續供應能力。截至目前，已成功代理超過 120 款車規芯片的流片項目，涵蓋 MCU、功率器件、傳感器等品類，客戶包括多家頭部汽車電子企業，流片產品的場失效率控制在 0.5ppm 以下。

流片代理服務中的專利布局支持是中清航科的特色服務之一。其知識產權團隊會在流片前對客戶的設計方案進行專利檢索與分析，識別潛在的專利侵權風險，并提供規避設計建議；流片完成后，協助客戶整理流片過程中的技術創新點，提供專利申請策略建議。通過該服務，客戶的專利申請通過率提升 35%，專利侵權風險降低 60%，某 AI 芯片客戶在其幫助下，成功申請了 15 項流片相關的發明專利。針對較低功耗芯片的流片需求，中清航科開發了專項工藝優化方案。通過與晶圓廠合作調整摻雜濃度、優化柵氧厚度等工藝參數，幫助客戶降低芯片的靜態功耗與動態功耗。引入較低功耗測試系統，能精確測量芯片在不同工作模式下的功耗特性，電流測量精度達到 10pA。已成功代理多個物聯網較低功耗芯片的流片項目，使產品的待機電流降低至 100nA 以下，續航能力提升 50%。中清航科失效分析實驗室，72小時定位流片失效根因。

針對人工智能（AI）芯片的流片需求，中清航科提供 AI 芯片專項流片服務。其技術團隊熟悉 GPU、TPU、NPU 等 AI 芯片的流片工藝，能為客戶提供計算單元設計、存儲架構布局、互連網絡優化等專業服務。通過與先進制程晶圓廠合作，引入 HBM（高帶寬內存）集成、Chiplet 互連等先進技術，提升 AI 芯片的算力與能效比。已成功代理多個云端 AI 芯片與邊緣 AI 芯片的流片項目，產品的算力密度達到國際先進水平。中清航科的流片代理服務展望未來，計劃在以下領域持續發力：一是進一步深化與先進制程晶圓廠的合作，拓展 3nm 及以下工藝的流片代理能力；二是加強與新興技術領域的合作，如量子計算、腦機接口等，提供前沿芯片的流片代理服務；三是推進流片服務的智能化與數字化，開發更先進的 AI 驅動流片管理平臺；四是擴大全球服務網絡，在更多國家與地區建立本地化服務團隊。通過持續努力，致力于成為全球的流片代理服務提供商，為半導體產業的發展做出更大貢獻。中清航科車規流片包，含HTOL/UBM等全套認證測試。臺積電 MPW流片代理供應商家

中清航科確保全流程符合RoHS/REACH法規，規避出口風險。舟山臺積電 12nm流片代理

流片后的數據分析與反饋對產品優化至關重要，中清航科為此開發了專業的流片數據分析平臺。該平臺可對接晶圓廠的測試數據系統，自動導入 CP 測試、FT 測試的原始數據，通過數據挖掘算法進行多維度分析，包括良率分布、參數分布、失效模式等，生成直觀的可視化報告。針對低良率項目，技術團隊會進行根因分析，區分設計問題與工藝問題，提供具體的優化建議，如調整光刻參數、優化版圖設計等。平臺還支持多批次數據對比，幫助客戶跟蹤良率變化趨勢，識別持續改進點。某客戶的射頻芯片流片后良率只為 65%，中清航科通過數據分析發現是金屬層刻蝕不均導致，提出優化刻蝕時間與功率的建議，二次流片良率提升至 89%。舟山臺積電 12nm流片代理